最先進(jìn)的光刻機(jī)

    全球最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)全球只有荷蘭的ASML生產(chǎn)，占據(jù)了光刻機(jī)市場高達(dá)80%的市場。Intel、臺積電、三星的光刻機(jī)都來自于與ASML。

最頂尖的光刻機(jī)不是荷蘭一個(gè)公司制造的，集合了許多國家最先進(jìn)技術(shù)的技術(shù)支持，可以說是多個(gè)國家國家共同努力的結(jié)果，比如德國的光學(xué)鏡頭、美國的計(jì)量設(shè)備等。ASML將這些來自不同國家的3萬多個(gè)配件，分為13個(gè)系統(tǒng)，需要將誤差分散到13個(gè)系統(tǒng)，如果德國的光學(xué)設(shè)備做的不準(zhǔn)、美國的光源不準(zhǔn)，那么ASML瞬間就是失去了精神。

相較于荷蘭、德國、美國等這些國家，我國的芯片制造以及超精密度機(jī)械制造方面不具有優(yōu)勢。再加上《瓦森納協(xié)定》的技術(shù)封鎖，因此，在高端光刻機(jī)領(lǐng)域，我國可以收仍然是空白。

我國的光刻機(jī)技術(shù)

上海微電子裝備有限公司（SMEE）是我國國內(nèi)唯一能夠做光刻機(jī)的企業(yè)。上海微電已經(jīng)量產(chǎn)的光刻機(jī)中，性能最好的是SSA600/200工藝，能夠達(dá)到90nm的制程工藝，相當(dāng)于2004年奔四CPU的水平。因此，國內(nèi)晶圓廠所需要的高端光刻機(jī)完全依賴進(jìn)口。

目前，最先進(jìn)的光刻機(jī)是ASML的極紫外光刻（EUV），用于7nm、5nm光刻技術(shù)，對于EUV光刻關(guān)鍵技術(shù)，國外進(jìn)行了嚴(yán)重的技術(shù)封鎖。我國在2017年，多個(gè)科研單位合作經(jīng)過7年的潛心鉆研，突破了EUV關(guān)鍵技術(shù)。根據(jù)相關(guān)資料披露，計(jì)劃2030年實(shí)現(xiàn)EUV光刻機(jī)國產(chǎn)化。

總之，在高端光刻機(jī)領(lǐng)域，我國的技術(shù)仍然比較薄弱。目前，中芯國際已經(jīng)從ASML成功訂購了一臺7nm制程的EUV光刻機(jī)，希望能夠在高端芯片制造領(lǐng)域能夠找到“備胎”。